Türkiye’nin İlk Güneş Hücresi Üretim Tesisi

Türkiye'de ilk ve tek yerli teknolojisiyle üretilen güneş hücresi

Türkiye’nin ilk endüstriyel fotovoltaik güneş hücresi üretim fabrikası olma özelliği taşıyan tesiste Multi kristal ve Mono kristal, standart (Al-BSF) ve PERC tipi hücreler üretilmektedir. Tesisin yıllık üretim kapasitesi 130 MW ile yaklaşık yıllık 26 milyon adet hücre üretimine karşılık vermektedir.

Parla PERC Teknolojisi

  • PID’ye bağlı kayıpların tamamen ortadan kaldırılması
  • Black silicon teknolojisi sayesinde hem düşük yansıma değerleri hem de CTM kayıplarının azaltılması
  • LID’ye bağlı kayıpların hücre ve modül üretim proseslerinde uygulanan işlemlerle %1’in altına indirilmesi
  • Inline denetleme sistemleri sayesinde yüksek kalitede ürün güvenliği
  • 4,5,6veya daha fazla busbar uygulama kabiliyeti

Standart hücrelere ek olarak, arka yüzeye kaplanan pasivasyon tabakası sayesinde bu yüzeyde oluşan pasivasyon kayıplarının önüne geçerek verimde yaklaşık %1’lik bir artış sağlanır.

Güneş Hücresi

3200 m2’lik üretim ve 1000 m2’lik yardımcı tesis alanına sahip tesisimizde üretim ISO 8 sınıfı temiz odada yapılmaktadır. Uyguladığımız fotovoltaik hücre üretim prosesi 8 ana adımdan oluşturmaktadır, her bir prosesin kalitesi ve verimliliği hem hat üstünde hem de laboratuvarlarımızdaki elektriksel ve optik karakterizasyon cihazlarıyla devamlı en üst seviyede tutulmaktadır.

  • Prosesin ilk adımında elmas testere ile dilimlenmiş (DWS) yüksek saflıkta p tipi mono/multi kristal silisyum wafer’lar, hat üstü giriş kalite kontrol makinasında kalınlık, özdirenç, geometri ve mikro çatlak gibi kontrollerden geçirilerek üretime giren her bir waferın istenen spesifikasyonlara uygun olduğundan emin olunur.
  • Tek bir ıslak tezgahta elektronik kalite kimyasallarla testere hasarı giderme, gümüş nano partikül biriktirme ve yüzey yapılandırma işlemleri uygulanır.
  • p-n eklemi oluşumu için, düşük basınçlı (LP) difüzyon fırınında güneşli yüzeye fosfor katkılaması yapılır.
  • Waferlar kenar izolasyonu ve PSG aşındırma işlemleri için tekrar bir kimyasal prosese maruz kalır.
  • Özel gazlar kullanılarak, plazmayla zenginleştirilmiş kimyasal buhar kaplama (PECVD) yöntemiyle güneşli yüzeye yansıma önleyici (SiNx) film tabakaları kaplanır.
  • Arka yüzeye elektriksel ve kimyasal pasivasyonu sağlayan nano ölçekte pasivasyon (SiONx) film tabakaları kaplanır.
  • Arka yüzeyde lazer ile kontak açıklıkları oluşturulur ve metalizasyon hattında serigrafi yöntemiyle ön ve arka kontaklar uygulanır.
  • Son olarak hücreler test ve sınıflandırma ünitesinde elektriksel ve optik özelliklerine göre sınıflandırılarak modül üretiminde kullanılmaya hazır hale getirilir.

Black silicon teknolojisi ile yüzeyi yapılandırılmış mono kristal silisyum wafer

Teknik Bilgiler